不銹鋼真空腔體功能劃分集中,主要為生長(cháng)區,傳樣測量區,抽氣區三個(gè)部分。對于分子束外延生長(cháng)腔,重要的參數是其中心點(diǎn)A的位置,即樣品在生長(cháng)過(guò)程中所處的位置。所以蒸發(fā)源,高能電子衍射(RHEED)槍?zhuān)吣茈娮友苌淦?,晶體振蕩器,生長(cháng)擋板,CCD,生長(cháng)觀(guān)察視窗的法蘭口均對準中心點(diǎn)。
蒸發(fā)源:由鎢絲加熱盛放生長(cháng)物質(zhì)的堆塌,通過(guò)熱偶絲測量溫度,堆鍋中的物質(zhì)被加熱蒸發(fā)出來(lái),在處于不銹鋼真空腔體中心點(diǎn)的襯底上外延形成薄膜。每個(gè)蒸發(fā)源都有其各自的蒸發(fā)源擋板控制源的開(kāi)閉,可以長(cháng)出多成分或成分連續變化的薄膜樣品。
高能電子衍射敏RHEED)高能電子衍射是常用的判斷襯底及薄膜樣品單晶程度的方法。高能電子衍射槍發(fā)出電子沿著(zhù)需要觀(guān)察的薄膜晶向掠入射在高能電子衍射屏涂有熒光粉)上形成電子衍射條紋。高能電子衍射槍和屏夾角約180度,連線(xiàn)經(jīng)過(guò)中心點(diǎn)。因為薄膜為二維結構,所以其單晶晶格在倒易空間中表現為一系列的倒易棒,高能電子在倒易空間中表現為一個(gè)半徑很大的球面。兩者相切,即得到一系列平行的衍射條紋,間距由薄膜的晶格常數決定。這樣的高能電子衍射條紋,就可以證明樣品的單晶程度是否良好。
晶體振蕩器:晶體振蕩器是分子束外延生長(cháng)的定標設備。定標時(shí),待蒸發(fā)源蒸發(fā)速度穩定后,將石英振蕩器置于中心點(diǎn)。通過(guò)讀出石英振蕩器振蕩頻率的變化,可以知道蒸發(fā)源在單位時(shí)間內在襯底上長(cháng)出薄膜的厚度。有的不銹鋼真空腔體將晶振放在樣品架放置樣品位置的反面(如小腔),在新腔體的設計中獨立設計了水冷晶振的法蘭口,用一個(gè)直線(xiàn)運動(dòng)裝置(Linear Motion)控制晶振的伸縮。
生長(cháng)擋板:生長(cháng)擋板通過(guò)在蒸發(fā)源和樣品之間的靜態(tài)或動(dòng)態(tài)遮擋,可以在同一塊襯底上生長(cháng)出特殊幾何圖形或者多種不同厚度的薄膜樣品。